有人说，哈工大获奖的“放电等离子体极紫外光刻光源”处于什么水平？

我看了一下，光源焦点功率43瓦，应该还没到能用的程度。ASML最近两代光刻机光源功率在250瓦-500瓦，并且ASML现在能提供接近600瓦的极紫外光源。不过，哈工大采用的是DPP方案和ASML的LPP方案相比光源的转化效率更高，不过DPP要提高光源功率难度更大一些，并且现有极紫外光刻机的光源都是LPP。

当然，既然哈工大选择了DPP路线，还是期待哈工大能给我们更多惊喜，毕竟要打通这条充满了迷雾和未知的路，还是得靠这些踏踏实实的科研人员。

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